Compugraphics® 光掩模
我们为全球客户提供高品质的光掩模和掩模版解决方案。
为何选择Compugraphics?
在Compugraphics,我们为全球客户提供高品质的光掩模和掩模版解决方案。 50多年来,我们凭借响应迅速和满足客户要求的能力,在技术和服务方面赢得了良好声誉。
服务客户并为其运营增值是我们所有工作的核心。所有客户对我们都很重要,希望无论是处于初创阶段还是长期合作的老客户,都能真正感受到被重视。我们分享知识和经验,始终致力于了解客户业务动态,并据此调整他们的需求和我们的服务。
我们在各个流程阶段都注重质量,于客户所需的快速周期时间内实现可靠产品。我们的客户能够以此按时向终端客户交付产品,实现出色的制造良率并降低拥有成本。
1X主光掩模
尺寸范围从3”x 3”到9”x 9”,有多种基板类型、厚度和光刻胶涂层,适用于接触式和投影式光刻机。
1X主光掩模可通过掩模光刻机或扫描仪技术,应用于成熟和新兴工艺。光掩模包含最终晶圆的完整图像或阵列,并可通过单次曝光或扫描进行曝光。如有任何非标准要求,欢迎与我们联系。
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掩模版
各种步进机(如ASML、尼康、佳能)的缩小掩模版(1.8X、2X、2.5X、4X、5X、10X)和1X Ultratech掩模版。
我们生产各种步进机(包括尼康、佳能和ASML)的缩小掩模版(1.8X、2X、2.5X、4X、5X、10X),以及1X Ultratech掩模版。 掩模版可订购带保护膜或不带保护膜版本。 我们还提供保护膜更换和重新认证服务。
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直接写入晶圆
我们可直接在您提供的晶圆上绘制图案。非常适合原型制作、小批量生产和快速设计需求。
直接写入技术可将设计图形直接转移至晶圆上,省去了掩模光刻机和光掩模流程。 我们可将您的设计文件导入设备,将图案写入覆盖有光刻胶的基板上。该工艺能够帮助更快捷地获得最终产品。
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复制掩模
复制掩模尺寸范围从3”x 3”到7”x 7”,基板为钠钙玻璃和石英,适用于接触式和接近式光刻。
如果使用母掩模,则更换掩模或复制掩模的成本与制作新掩模相同。但如果尺寸足够大(>2μm)且对分辨率、对准度和缺陷控制的要求不那么严格,则可以使用接触式印刷工艺制作掩模的副本。这比制作新的母掩模成本要低。
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支持服务
我们的支持服务
我们的服务和系统旨在确保客户的运营从设计阶段到交付以及掩模使用都能依赖我们的支持。从专注且知识渊博的支持团队到灵活的在线订购系统,我们随时为您提供所需帮助。
保护膜更换
快速提供保护膜更换和掩模重新认证支持,减少对您运营和排程的影响。
当光掩模/掩模版的现有保护膜受损或因任何原因受到影响时(如搬运不当、环境因素、老化退化、使用损耗等),我们提供此项服务以移除现有保护膜。清洁掩模版并添加所需的新保护膜部件。
检查修复后的掩模,确保图像质量得以保持,并随即返还给客户以恢复使用,从而减少宝贵的生产时间损失。
我们深知生产线常因单个受损保护膜而停工,因此我们优先快速处理,减少关键延误。
联系我们MPT涂层
我们的MPT涂层延长了光掩模的使用寿命,并通过增加两次清洁之间的曝光次数提高产量。
MPT是一种经济高效的方法,可减少周期时间并提高晶圆工艺良率。这种光学透明的薄涂层可减少接触式和接近式印刷过程中掩模的粘连,同时,含氟聚合物减少了掩模清洁次数,延长了掩模使用寿命,并通过增加两次掩模清洁之间的曝光次数来提高产量。MPT还具有耐化学性,对分辨率无影响。
联系我们光掩模清洁
我们为使用中的光掩模提供售后支持,以去除污染并延长其使用寿命。我们提供快速周转服务,减少晶圆厂的关键延误或生产线停工。
在使用过程中保持掩模质量是一项挑战,虽然光掩模坚固耐用,但并非坚不可摧。无论哪个行业,客户所使用的光刻工艺都要求掩模具有一定的图案完整性,以确保制造出的设备没有任何可能影响性能的缺陷。
我们的清洁流程结合了化学和物理方法。使用硫酸和过氧化氢混合物去除光刻胶和有机污染物。
我们优先提供快速周转服务,减少晶圆厂的关键延误或生产线停工。
联系我们在线订购和报告
易于使用的在线报价请求表、掩模订购表和客户入口界面,用于跟踪实时订单状态和发货情况。
无论客户的业务规模如何,我们的客户支持团队、工程团队和商务团队随时准备为客户提供支持,指导客户完成项目掩模定义和规划。
我们也理解能够全天候访问稳定易用在线系统的重要性,以便您下订单并检查订单在生产或运输中的状态。我们的客户无论身处哪个时区,都能实时访问这些信息。
Compugraphics 还提供安全的客户数据归档服务,以便客户重新订购复制掩模,或掩模在晶圆厂损坏时能下订单重新制作。可商定延长存档时间。
联系我们数据准备支持
将客户提供的数据转换为“可写入”格式、进行数据验证检查、提供远程在线数据视图以及审批流程。
当您缺乏内部资源时,我们可以为您提供解决方案,包括数据转换、将提供的数据设置为“可写入”掩模数据格式,并且/或者根据您提供的说明创建新数据。
若您准备提供DXF文件,请先与我们联系,我们可以提供指导,帮助您节省时间、金钱,避免可能的转换错误。
我们还可以提供所有必要的掩模布局指南,包括断裂窗口、网格大小、框架生成等。
联系我们光掩模基础知识
深入了解光掩模是什么及其使用方法的基础知识。我们提供专业支持,助您明确光掩模需求。
光掩模是一款石英或玻璃基板,涂有一层不透明薄膜,薄膜上蚀刻有正制造设备的设计图案。
光掩模在客户用于制造集成电路(IC)、光子器件和微机电系统(MEMS)的微光刻工艺中发挥着关键作用。光掩模由涂有一层不透明薄膜的熔融石英(QZ)或玻璃(SL)基板组成,设备设计图案精确复制并蚀刻在薄膜中。除了图案高度保真外,光掩模还必须满足客户对线宽、关键尺寸(CD)控制、图案放置(对准)和缺陷控制的要求。“母掩模”、“副掩模”和“复制掩模”通常用于指代1X光掩模,而“掩模版”则指1.8X、2X、2.5X、4X、5X和10X步进机或扫描仪光掩模。一个功能正常的设备可能需要5到40多个光掩模,制造过程中的每一个步骤对应一个掩模。
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