内层粘合促进剂
一系列精心设计的粘合促进剂,可确保高速、低损耗应用下的稳健可靠性。
了解更多确保阻焊膜和干膜具有优越的粘合力,为高性能印刷电路板制造提供牢固、可靠的粘合。
使用我们先进的粘合促进剂,可实现阻焊膜和干膜或液体光刻胶的优越粘合。选择我们的MultiPrep 200铜粘合促进剂,可实现铜表面均匀粗化,无需擦洗,确保微孔、超精细结构和所有最终表面处理的可靠键合。
集成解决方案
从孔金属化到最终表面处理,我们的集成电路形成解决方案可优化印刷电路板制造,同时提升可靠性和性能。
可持续性
我们的开创性技术可减少有害材料的使用,减少水和电力消耗,帮助客户实现其环境、健康与安全(EH&S)目标。
可靠性
我们的铜粘合促进和内层粘合技术经验证,可确保整个电路形成过程中的优越可靠性。
我们先进的粘合促进剂专为铜上面的阻焊膜、干膜和液体光刻胶而设计,可确保优越的键合均匀性。
采用MultiPrep 200可形成粗糙的微蚀刻铜表面,增强与微孔、超精细结构和通孔填充的粘合力,确保优越可靠性。
是的,它与所有最终表面处理化学物质(包括化学镍金(ENIG)、沉银、有机可焊性保护剂(OSP)和沉锡)均能无缝配合。
当然可以,它非常适用于微孔、超精细结构和复杂电路板,具有均匀性和整洁的外观。
MultiPrep 200 拥有数十年的蚀刻专业知识作为后盾,在各种应用中均具备优越的可靠性、兼容性和性能。