化学沉铜
针对高要求印刷电路板应用,采用高可靠性化学铜工艺,优化多层电路板的性能。
了解更多我们的导电成孔工艺具备可持续性、能节约成本且可靠性强,相较于传统方法,其产生的废弃物更少,耗能也更低。
采用碳和石墨的直接电镀金属化解决方案(包括Blackhole®和Shadow®工艺)减少了废弃物、降低了耗电量和耗水量,同时避免了甲醛和其他有害化学物质。
与化学沉铜相比,我们的工艺提供了经济高效且高性能的解决方案。
集成解决方案
我们拥有完整的化学沉铜产品、直接电镀金属化产品和最终表面处理产品组合,确保在所有板材上实现高质量、一致的金属镀膜。
可持续性
我们的无贵金属孔金属化解决方案减少了资源消耗和废弃物产生,支持可持续且高效的印刷电路板制造。
可靠性
直接电镀金属化和化学沉铜孔金属化工艺能够为高速、多层先进印刷电路板提供可靠的连接性能。
直接电镀金属化是指在没有显着的化学反应制程中,直接在塑料或复合材料等非金属表面形成导电层。它能确保高性能的结合,是先进IC载板和印刷电路板制造中不可或缺的一环。
与传统的化学沉铜工艺相比,直接电镀金属化制程减少废弃物、降低耗水量以及耗电量。并且不需要采用甲醛等有害化学品和钯等贵金属。
直接电镀金属化能降低运营成本,提高产量,并减少对环境的污染破坏。能避免使用有害化学品,同时确保先进载板和高密度设计中的铜与铜之间结合的高信赖度。
直接电镀金属化采用碳或石墨替代品,取代了依赖钯或甲醛的化学沉铜工艺。这种方法更具成本效益,更环保,且非常适合先进载板。
Shadow® Plus是我们新一代的直接电镀金属化解决方案,在先前创新的基础上更进一步的提升制程能力。搭配我们的Wet-Etch技术,有效的降低耗电量与耗水量,提高生产效率并符合可持续性。