Shadow® Plus

一种石墨基、Wet-Etch的直接电镀金属化技术,旨在增强高密度应用中的可靠性。

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产品概述

Shadow Plus 是一种拥有专利的石墨基Wet-Etch直接电镀金属化技术,可增强高密度应用中的可靠性。通过使用石墨基胶体和专有添加剂使微孔和通孔具备导电性,从而实现完整的覆盖率。该技术是替代化学沉铜的先进方案,具有更快的生产速度以及显着的可持续性优势。

产品特性

CS-Product Features
更优异的性能与可靠性

Shadow Plus通过减少界面数量实现直接铜对铜键合,消除了纳米空洞现象,从而提高了可靠性。

与其他直接电镀金属化工艺相比,该工艺高效稳定,底部的沉淀泥渣生成量更少 

Shadow Plus是维护难度低的3步骤化学工艺,与化学沉铜相比,耗电量更低,且操作温度更低。

相较于化学沉铜,具有经验证的可持续性优势

该技术能显着减少废弃物的产生以及耗电量与耗水量,同时不需要使用甲醛和乙二胺四乙酸(EDTA)等有害化学品。此外,与上一代直接电镀金属化工艺相比,湿法蚀刻技术能进一步减少水和电力的使用。

Shadow Plus

Shadow Plus是一种采用石墨搭配Wet-Etch的直接电镀金属化技术。 

特色应用

高密度设计

Shadow Plus非常适合具有高纵横比、盲孔、埋孔和叠层孔、精细线路和间距等特征的先进载板。

印刷电路板应用

Shadow Plus可广泛应用于汽车、移动设备、通讯、服务器以及军事/航空航天市场的各类印刷电路板应用。

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