半加成法IC载板技术

探索专为高密度IC载板设计的半加成法高性能积层工艺系列。

借助我们的Systek SAP技术重新定义先进IC载板

我们创新的Systek™ SAP半加成法工艺可实现卓越的粘合力、无应力的铜层和低粗糙度表面,为IC载板再分布层(RDL)和高密度积层材料带来全新的设计可能性。

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IC载板表面处理

我们的高性能最终表面处理可提升可焊性和打金线键合性能,以满足OEM标准。
 

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酸性镀铜技术

利用创新可靠的填盲孔、RDL、填通孔及面板级封装解决方案,助力打造先进的载板。

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铜粘合促进

借助我们的铜结合力促进剂推动创新,实现稳定的铜层结合力与精准蚀刻,打造卓越的载板。

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集成解决方案

我们提供全面的产品组合,从孔金属化到最终表面处理,支持先进IC载板的制造,以应对当今先进设备的挑战。

可持续性

我们的先进技术可减少有害物质的使用,降低水和能源消耗,并帮助客户实现其环境、健康和安全(EH&S)目标。

可靠性

我们的特殊工艺旨在提高可靠性,确保高密度IC载板设计的优异性能。

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常见问题

使用Systek SAP半加成法工艺处理IC载板有哪些关键优势?

Systek™ SAP可增强粘合力,提供无应力的铜层,实现低表面粗糙度。这些优势可确保更高的可靠性、优异的信号完整性,并满足高密度IC载板的严格设计要求。

Systek SAP半加成法工艺如何支持高密度集成电路设计?

Systek™ SAP通过精确的铜沉积支持高密度设计,适用于细线、微孔和再分布层(RDL)。可确保出色的粘合力,减少表面粗糙度,实现优异性能。

Systek SAP的半加成法工艺与其他金属化技术有何不同?

Systek™ SAP将去污、预处理和活化等先进步骤与化学镀铜相结合,形成无应力、高性能的种子层,并针对复杂的IC载板设计进行了优化。

在IC载板制造中,半加成法工艺能否用于柔性材料?

可以,Systek™ SAP支持柔性材料,并针对超细线和柔性基板定制了工艺流程,确保出色的粘合力和高品质的镀层,以满足柔性集成电路设计的需求。

Systek SAP的半加成法工艺与哪些材料兼容?

Systek™ SAP工艺与多种材料兼容,包括玻璃、柔性基板和超细线基板,为高密度、多层集成电路设计提供出色的金属化效果。

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