铜减薄:CircuEtch 100

CircuEtch 100 是一款基于过硫酸盐体系的高速铜蚀刻液,适用于多种印刷电路制造场景。

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产品概述

CircuEtch 100 是 CO₂ LDD、LED 及印刷电路板应用中控制铜层厚度的理想选择。蚀刻过程中可同步实现铜表面抛光,即使在高蚀刻速率下仍能保持较低的表面粗糙度。通过调整操作条件,可获得广泛的蚀刻速率范围。

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