Cuprostar ST-2000

具备强均掷力能力的解决方案,可提升高纵横比通孔电镀的均掷力能力。

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产品概述

CUPROSTAR St-2000是一种直流酸性镀铜工艺,可在纵横比高达15:1的通孔中,以高达 30 ASF 的电流密度实现高均掷力能力。增强均掷力能力,结合更高的电流密度能力,可在减少表面多余铜的同时提高产量,并突破标准直流电镀的性能局限。

镀层超过IPC的3A级标准规定的拉伸强度、延展性要求,且通过所有热可靠性测试,确保设备性能可靠。

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