MICROFAB® SC-40 PLUS

新一代高速镀铜工艺,提供高纯度镀层和出色的均匀性。

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产品概述

MICROFAB SC-40 PLUS 是一种新一代酸性镀铜工艺,代表了半导体制造领域的一项重要进展。为制造商提供一种结合了精确性、高效性和易用性的解决方案。凭借高达 2.5 µm/min 的高速电镀能力,MICROFAB SC-40 PLUS 能产生高纯度的镀层,并具有出色的晶圆内、芯片内及特征结构内均匀性。 

产品特性

Wafer level packaging
面向新一代封装的创新铜柱电镀技术

MICROFAB SC-40 PLUS 旨在满足半导体行业对提升先进封装可靠性和性能的需求。

高纯度镀层与出色的均匀性

该工艺能够实现高达 2.5 µm/min 的高速电镀,从而获得高纯度、具有出色均匀性和平坦凸块形貌的镀层。

通用型化学工艺,易于使用

通用型化学工艺,适用于不同深宽比铜柱以及不同线宽/线距比的再布线层。该工艺兼容含镍阻挡层和无镍阻挡层工艺,确保形成无柯肯德尔空洞的堆叠结构。

特色应用

MICROFAB SC-40 PLUS image
凸块、铜柱与再布线层

MICROFAB SC-40 PLUS 适用于凸块、铜柱和再布线层金属化,兼容含镍或不含镍阻挡层工艺,并能与多种焊料(如锡银焊料和纯锡)配合使用。

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