MICROFAB® AU100 CT DEPLATE

无氰金种子层退镀剂,可选择性地剥离金种子层金属化,从而来降低成本。

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产品概述

为支持细线特征结构、台阶覆盖和凸块电镀,镀金解决方案在技术上取得了显著提升。为帮助降低运营成本,我们开发了无氰退镀体系,配合先进的镀金工艺使用。

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